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    產(chǎn)品名稱:

    光學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)性能分析系統(tǒng)

    發(fā)布日期: 2024-04-22
    訪問量: 1695
    光學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)性能分析系統(tǒng)
    LED制造商、集成商以及用戶非常關(guān)注LED的光學(xué)、熱學(xué)和電學(xué)特性,因?yàn)榻Y(jié)溫的變化將影響LED的顏色、光通量、壽命、發(fā)光效率及線性特征。

    Illumia Pro 2針對產(chǎn)品加設(shè)了溫控盤,方便用戶對LED、LED模塊及陣列的電特性、光學(xué)和熱學(xué)特性準(zhǔn)確測量。
    • 詳細(xì)內(nèi)容

    ILLUMIA PRO 2 LED光學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)性能分析系統(tǒng)


    LED制造商、集成商以及用戶非常關(guān)注LED的光學(xué)、熱學(xué)和電學(xué)特性,因?yàn)榻Y(jié)溫的變化將影響LED的顏色、光通量、壽命、發(fā)光效率及線性特征。

    Illumia Pro 2針對產(chǎn)品加設(shè)了溫控盤,方便用戶對LED、LED模塊及陣列的電特性、光學(xué)和熱學(xué)特性準(zhǔn)確測量。

    Illumia®Pro 光測量系統(tǒng)以盡可能減少與定向光源和發(fā)散光源相關(guān)的空間分布敏感性并易于使用為設(shè)計(jì)原則,滿足行業(yè)的測量標(biāo)準(zhǔn)。

    所有的系統(tǒng)都由Labsphere經(jīng)驗(yàn)豐富的實(shí)驗(yàn)室校準(zhǔn)團(tuán)隊(duì)在特定應(yīng)用程序下進(jìn)行校正,測量結(jié)果可溯源xxxNIST(美國國家標(biāo)準(zhǔn)局)。

    Spectraflect®涂料是Labsphere*的高漫反射率涂料, 可以覆蓋較寬的波長范圍。這種材料無毒,朗伯特性好,易于噴涂在任何基板上。Spectraflect®涂料采用硫酸鋇及專有配方配置而成,采用這種涂料制成的表面具有近乎xxx的漫反射特性。

    Spectraflect®涂料不透明,在400-1100nm波長范圍內(nèi)反射率可高達(dá)98%,溫度接近100℃時(shí)熱穩(wěn)定性好。

    Spectraflect®在紫外-可見-近紅外光譜區(qū)內(nèi)通常被用作反射涂料,且在300-2400nm的波長范圍內(nèi)xxx為有效,涂料在波長達(dá)到185nm時(shí)開始出現(xiàn)粘合劑吸收峰。

    illumia®Pro光測量系統(tǒng)客戶定制化程度高,SMS-500高速光譜儀及多種可互換的光測量附件。光譜結(jié)果毫秒內(nèi)便可獲得,并且符合國際測量標(biāo)準(zhǔn)。

    特點(diǎn):

    • 寬動(dòng)態(tài)范圍允許單個(gè)積分球測量不同亮度等級
    • NIST溯源標(biāo)準(zhǔn),可自校準(zhǔn)
    • 光譜測量結(jié)果可在毫秒內(nèi)獲得
    • 積分球內(nèi)表面使用Spectraflect®涂料,漫反射率高
    • 符合國家測量標(biāo)準(zhǔn)

    illumia®Pro的溫控單元 (TEC 制冷)

    特點(diǎn):

    • 完整的熱學(xué)、光學(xué)、電學(xué)分析
    • 自動(dòng)數(shù)據(jù)采集和分析
    • 熱電溫度控制及監(jiān)控
    • 測量光學(xué)特性與溫度及工作電流的函數(shù)關(guān)系
    • 可選擇多種尺寸的積分球(直徑0.5米,1米,1.65米及2米)
    • 滿足IESNA LM-79和LM-80標(biāo)準(zhǔn)可實(shí)現(xiàn)周圍環(huán)境溫度控制

    SMS-500是高靈敏度的CCD陣列光譜儀,具有低噪音、光譜范圍廣的特點(diǎn)。illumia®Pro熱測量系統(tǒng)配套的光譜儀能避免與基于過濾器的光度計(jì)相關(guān)的固有光測誤差。即便針對一些窄帶光源應(yīng)用,如LED、熒光燈和放電燈,也能獲得精確的測量數(shù)據(jù)。
    Labsphere的SMS-500 CCD陣列光譜儀是一種多通道的實(shí)時(shí)光譜數(shù)據(jù)分析儀,可以快速獲得待測設(shè)備的輻照度、光度及色度等參數(shù),快速測量有助于提高產(chǎn)品開發(fā)速度、縮短產(chǎn)品上市時(shí)間、降低產(chǎn)品開發(fā)成本。

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